Sistema de crecimiento CVD de nanotubos de carbono de pared simple
Horno CVD vertical para la síntesis de nanotubos de carbono de pared simple (SWCNT): tubo de carburo de silicio de hasta Φ200 mm, tres zonas hasta 1300 °C y recogida continua.
- Proceso
- CVD
- Temperatura máx.
- 1300
°C - Tubo
- Φ170-200
mm - Precisión
- ±1
°C - Recogida
- continua
Este sistema de deposición química de vapor (CVD) está diseñado específicamente para el crecimiento de nanotubos de carbono de pared simple. Un diseño propio de mezcla de gases y el precalentamiento del gas de entrada mantienen estables las condiciones de reacción, y la alimentación atomizada por ultrasonidos en varias etapas introduce la fuente de carbono de forma uniforme para un crecimiento direccional controlado. El tubo de carburo de silicio de gran diámetro aumenta la producción por ciclo, y el horno vertical con colector de eje giratorio permite retirar el producto y el carbono amorfo sin detener el horno.
2 modelos.
Datos del catálogo vigente. La configuración final depende de su material y proceso.
| Modelo | Tubo único | Multitubo |
|---|---|---|
| Material del tubo del horno | Carburo de silicio | Carburo de silicio |
| Tamaño del tubo (mm) | Φ170×1700 | Φ200×1700 ×N |
| Potencia de calentamiento (kW) | 65 | Según configuración |
| Zonas de calentamiento | Tres zonas, 1700 mm de longitud calentada | Tres zonas, 1700 mm de longitud calentada |
| Temperatura máx. (°C) | 1300 | 1300 |
| Método de calentamiento | Calentamiento por resistencia | Calentamiento por resistencia |
| Sensor de temperatura | Termopar tipo S (Pt-Rh) | Termopar tipo S (Pt-Rh) |
| Precisión de temperatura (°C) | ±1 | ±1 |
| Dimensiones L×An×Al (mm) | 3000×1800×4500 | Según configuración |
Lo que incorpora.
- 01
Carcasa de acero inoxidable antideflagrante con refrigeración local por agua y aislamiento reforzado para un menor consumo
- 02
Diseño sobre patín, rápido de instalar y fácil de operar
- 03
Resistencias de marca con mayor vida útil
- 04
Alimentación atomizada por ultrasonidos en varias etapas: alimentación uniforme, crecimiento direccional controlado y mejor repetibilidad entre lotes
- 05
Precalentamiento del gas antes del reactor para condiciones de reacción constantes
- 06
Interfaz de vacío para sustituir rápidamente la atmósfera del horno
- 07
Detector de gases inflamables y explosivos con vigilancia permanente
- 08
Enclavamientos por sobretemperatura, rotura de termopar, baja presión de agua, exceso de presión de gas, fuga de gas y fuga eléctrica
Materiales típicos.
- Producción de nanotubos de carbono de pared simple
- Dispositivos nanoelectrónicos
- Refuerzo de compuestos
- Materiales de almacenamiento de energía
- Catalizadores y soportes
- Sensores y emisores de campo
- Películas conductoras
- Bionanomateriales
Preguntas frecuentes
¿Qué materiales puede procesar el Sistema de crecimiento CVD de nanotubos de carbono de pared simple?
Sistema de crecimiento CVD de nanotubos de carbono de pared simple se utiliza en producción de nanotubos de carbono de pared simple, dispositivos nanoelectrónicos, refuerzo de compuestos, materiales de almacenamiento de energía, catalizadores y soportes, sensores y emisores de campo, películas conductoras y bionanomateriales. La idoneidad para un material nuevo depende del contenido de sólidos, la viscosidad, la dureza y de si la suspensión es acuosa o en disolvente; envíenos la ficha técnica y la finura objetivo y los ingenieros de INFOR la evaluarán.
¿Qué modelo del Sistema de crecimiento CVD de nanotubos de carbono de pared simple debo elegir?
Se suministra en una única configuración, así que la selección consiste en confirmar que se ajusta a su material, a la finura objetivo y a la producción horaria; INFOR lo verifica en equipos de laboratorio o piloto antes de confirmar la máquina.
¿Cuáles son las principales características de diseño de Sistema de crecimiento CVD de nanotubos de carbono de pared simple?
Características principales: Carcasa de acero inoxidable antideflagrante con refrigeración local por agua y aislamiento reforzado para un menor consumo; Diseño sobre patín, rápido de instalar y fácil de operar; Resistencias de marca con mayor vida útil; Alimentación atomizada por ultrasonidos en varias etapas: alimentación uniforme, crecimiento direccional controlado y mejor repetibilidad entre lotes.
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