單壁奈米碳管 CVD 生長設備

Name: 單壁奈米碳管 CVD 生長設備
Brand: INFOR

用於單壁奈米碳管製備的立式 CVD 生長爐：碳化矽爐管最大 Φ200 mm，三段溫區最高 1300 °C，可連續收料。

概述

這是一台專為單壁奈米碳管生長設計的化學氣相沉積（CVD）設備。獨特的混氣設計和進氣預熱讓反應條件保持一致，多級霧化超聲進料讓碳源均勻進入爐內，實現可控的定向生長。大口徑碳化矽爐管提高單爐產能；立式爐體配合轉軸收料機構，產品和無定形碳都能在不停爐的情況下連續收集。

技術參數

2 個型號。

數據取自現行產品目錄，最終配置視物料與工藝而定。

設計

物料

常見問題

單壁奈米碳管 CVD 生長設備能處理哪些物料？

單壁奈米碳管 CVD 生長設備用於單壁奈米碳管製備、奈米電子元件、複合材料增強、儲能材料、觸媒及載體、感測器與場發射器、導電薄膜、生物奈米材料。新物料是否適用，主要看固含量、黏度、硬度以及水性還是油性體系；把物料數據表和目標粒徑發給我們，億富工程師會評估。

單壁奈米碳管 CVD 生長設備該選哪個型號？

單壁奈米碳管 CVD 生長設備為單一配置，選型就是確認它是否匹配您的物料、目標粒徑和小時產量；億富會先在實驗室或中試設備上驗證，再確認生產機型。

單壁奈米碳管 CVD 生長設備有哪些主要設計特點？

單壁奈米碳管 CVD 生長設備的主要設計特點：不鏽鋼防爆外殼，局部水冷保護，內部保溫層加厚，能耗更低；撬裝式設計，安裝快、操作便捷；發熱體採用品牌元件，使用壽命更長；多級霧化超聲進料，進料均勻，有效控制定向生長，提高批次一致性。

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告訴我們物料、目標 D50/D90 和小時產能，我們將在 24 小時內給出選型建議。