Sistema de crescimento CVD de nanotubos de carbono de parede simples
Forno CVD vertical para a síntese de nanotubos de carbono de parede simples (SWCNT): tubo de carboneto de silício até Φ200 mm, três zonas até 1300 °C e recolha contínua.
- Processo
- CVD
- Temperatura máx.
- 1300
°C - Tubo
- Φ170-200
mm - Precisão
- ±1
°C - Recolha
- contínua
Este sistema de deposição química em fase de vapor (CVD) foi concebido especificamente para o crescimento de nanotubos de carbono de parede simples. Um design próprio de mistura de gases e o pré-aquecimento do gás de entrada mantêm as condições de reação estáveis, e a alimentação atomizada por ultrassons em várias fases introduz a fonte de carbono de forma uniforme para um crescimento direcional controlado. O tubo de carboneto de silício de grande diâmetro aumenta a produção por ciclo, e o forno vertical com coletor de eixo rotativo permite retirar o produto e o carbono amorfo sem parar o forno.
2 modelos.
Dados do catálogo atual. A configuração final depende do seu material e processo.
| Modelo | Tubo único | Multitubo |
|---|---|---|
| Material do tubo do forno | Carboneto de silício | Carboneto de silício |
| Tamanho do tubo (mm) | Φ170×1700 | Φ200×1700 ×N |
| Potência de aquecimento (kW) | 65 | Conforme a configuração |
| Zonas de aquecimento | Três zonas, 1700 mm de comprimento aquecido | Três zonas, 1700 mm de comprimento aquecido |
| Temperatura máx. (°C) | 1300 | 1300 |
| Método de aquecimento | Aquecimento por resistência | Aquecimento por resistência |
| Sensor de temperatura | Termopar tipo S (Pt-Rh) | Termopar tipo S (Pt-Rh) |
| Precisão de temperatura (°C) | ±1 | ±1 |
| Dimensões C×L×A (mm) | 3000×1800×4500 | Conforme a configuração |
O que vem incorporado.
- 01
Carcaça de aço inoxidável à prova de explosão com arrefecimento local a água e isolamento reforçado para menor consumo
- 02
Design sobre skid, rápido de instalar e fácil de operar
- 03
Resistências de marca com maior vida útil
- 04
Alimentação atomizada por ultrassons em várias fases: alimentação uniforme, crescimento direcional controlado e melhor repetibilidade entre lotes
- 05
Pré-aquecimento do gás antes do reator para condições de reação constantes
- 06
Interface de vácuo para substituir rapidamente a atmosfera do forno
- 07
Detetor de gases inflamáveis e explosivos com monitorização permanente
- 08
Encravamentos por sobretemperatura, rutura de termopar, baixa pressão de água, excesso de pressão de gás, fuga de gás e fuga elétrica
Materiais típicos.
- Produção de nanotubos de carbono de parede simples
- Dispositivos nanoeletrónicos
- Reforço de compósitos
- Materiais de armazenamento de energia
- Catalisadores e suportes
- Sensores e emissores de campo
- Filmes condutores
- Bionanomateriais
Perguntas frequentes
Que materiais o Sistema de crescimento CVD de nanotubos de carbono de parede simples consegue processar?
Sistema de crescimento CVD de nanotubos de carbono de parede simples tem aplicação em produção de nanotubos de carbono de parede simples, dispositivos nanoeletrónicos, reforço de compósitos, materiais de armazenamento de energia, catalisadores e suportes, sensores e emissores de campo, filmes condutores e bionanomateriais. A adequação a um material novo depende do teor de sólidos, da viscosidade, da dureza e de a suspensão ser aquosa ou à base de solvente; envie a ficha técnica e a finura desejada e os engenheiros da INFOR farão a avaliação.
Que modelo do Sistema de crescimento CVD de nanotubos de carbono de parede simples devo escolher?
Trata-se de uma configuração única, por isso a seleção consiste em confirmar que se ajusta ao seu material, à finura desejada e à produção por hora; a INFOR verifica isto em equipamentos de laboratório ou piloto antes de confirmar a máquina.
Quais são as principais características de projeto de Sistema de crescimento CVD de nanotubos de carbono de parede simples?
Principais características: Carcaça de aço inoxidável à prova de explosão com arrefecimento local a água e isolamento reforçado para menor consumo; Design sobre skid, rápido de instalar e fácil de operar; Resistências de marca com maior vida útil; Alimentação atomizada por ultrassons em várias fases: alimentação uniforme, crescimento direcional controlado e melhor repetibilidade entre lotes.
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