单壁碳纳米管 CVD 生长设备

Name: 单壁碳纳米管 CVD 生长设备
Brand: INFOR

用于单壁碳纳米管制备的立式 CVD 生长炉：碳化硅炉管最大 Φ200 mm，三段温区最高 1300 °C，可连续收料。

概述

这是一台专为单壁碳纳米管生长设计的化学气相沉积（CVD）设备。独特的混气设计和进气预热让反应条件保持一致，多级雾化超声进料让碳源均匀进入炉内，实现可控的定向生长。大口径碳化硅炉管提高单炉产能；立式炉体配合转轴收料机构，产品和无定形碳都能在不停炉的情况下连续收集。

技术参数

2 个型号。

数据取自现行产品目录，最终配置视物料与工艺而定。

设计

物料

常见问题

单壁碳纳米管 CVD 生长设备能处理哪些物料？

单壁碳纳米管 CVD 生长设备用于单壁碳纳米管制备、纳米电子器件、复合材料增强、储能材料、催化剂及载体、传感器与场发射器、导电薄膜、生物纳米材料。新物料是否适用，主要看固含量、黏度、硬度以及水性还是油性体系；把物料数据表和目标粒径发给我们，亿富工程师会评估。

单壁碳纳米管 CVD 生长设备该选哪个型号？

单壁碳纳米管 CVD 生长设备为单一配置，选型就是确认它是否匹配您的物料、目标粒径和小时产量；亿富会先在实验室或中试设备上验证，再确认生产机型。

单壁碳纳米管 CVD 生长设备有哪些主要设计特点？

单壁碳纳米管 CVD 生长设备的主要设计特点：不锈钢防爆外壳，局部水冷保护，内部保温层加厚，能耗更低；撬装式设计，安装快、操作便捷；发热体采用品牌元件，使用寿命更长；多级雾化超声进料，进料均匀，有效控制定向生长，提高批次一致性。

同系列

告诉我们物料、目标 D50/D90 和小时产能，我们将在 24 小时内给出选型建议。