Forno de arco de plasma CC para nanotubos de carbono de parede simples
Forno de arco de plasma CC de alta frequência que atinge 5000-7000 °C para o crescimento de nanocarbono com catalisador flutuante, com câmara de vácuo arrefecida a água e descarga automática.

- Temperatura do arco
- 5000-7000
°C - Crescimento
- catalisador
flutuante - Câmara
- arrefecida
a água - Potência total
- ~220
kW - Descarga
- automática
O sistema de crescimento por arco de plasma CC combina um gerador de plasma CC de alta frequência, um reator de crescimento por craqueamento catalítico em plasma, uma consola de operação, um sistema de substituição rápida de gás, um sistema de recolha por névoa de água e um sistema de arrefecimento completo. Uma descarga de alta frequência entre o elétrodo superior e o elétrodo de soleira converte energia elétrica em calor a 5000-7000 °C. Com um gás ativo de alta pureza, o arco de plasma vaporiza o catalisador, que sublima e reage com uma fonte de carbono muito ativa na câmara flutuante para fazer crescer nanocarbono. A alimentação é semiautomática e a descarga é totalmente automática com o sistema de recolha.
1 modelos.
Dados do catálogo atual. A configuração final depende do seu material e processo.
| Modelo | Especificação |
|---|---|
| Câmara de vácuo | Aço inoxidável, dupla camada arrefecida a água |
| Tamanho da câmara de vácuo (mm) | Φ520×1200 |
| Diâmetro útil do forno (mm) | Φ560 |
| Material do tubo do forno | Corindo de alta pureza (~80%) |
| Comprimento da zona de aquecimento (mm) | 700 + 400 (zona dupla) |
| Alimentação | AC 380 V, 50-60 Hz |
| Potência total (kW) | ~220 |
| Peso líquido (kg) | ~9800 |
O que vem incorporado.
- 01
Aquecimento direto com soleira condutora: o arco forma-se entre o elétrodo superior e o de soleira
- 02
Reator de plasma de alta limpeza para o crescimento de nanocarbono com catalisador flutuante
- 03
Sistema de substituição rápida de gás e sistema de recolha por névoa de água
- 04
Sistema de arrefecimento completo e consola de operação
- 05
Alimentação semiautomática e descarga automática
- 06
Fornecimento de árgon a cargo do cliente: gás de transporte da tocha ≥100 L/min (DN16), gás de compressão do arco ≥1000 L/min (DN25), purga do visor ≥300 L/min (DN16), gás de vedação do elétrodo móvel ≥50 L/min (DN16), gás de transporte ciclónico da câmara de evaporação ≥500 L/min (DN16), duas linhas de purga intermitente de descarga superior e inferior ≥1000 L/min (DN25), mais uma entrada de fonte de carbono DN16
Materiais típicos.
- Produção de nanotubos de carbono de parede simples
- Pó de nanofibra de carbono
- Matéria-prima para agentes condutores
- Investigação e produção piloto de nanocarbono
Perguntas frequentes
Que materiais o Forno de arco de plasma CC para nanotubos de carbono de parede simples consegue processar?
Forno de arco de plasma CC para nanotubos de carbono de parede simples tem aplicação em produção de nanotubos de carbono de parede simples, pó de nanofibra de carbono, matéria-prima para agentes condutores e investigação e produção piloto de nanocarbono. A adequação a um material novo depende do teor de sólidos, da viscosidade, da dureza e de a suspensão ser aquosa ou à base de solvente; envie a ficha técnica e a finura desejada e os engenheiros da INFOR farão a avaliação.
Que modelo do Forno de arco de plasma CC para nanotubos de carbono de parede simples devo escolher?
Trata-se de uma configuração única, por isso a seleção consiste em confirmar que se ajusta ao seu material, à finura desejada e à produção por hora; a INFOR verifica isto em equipamentos de laboratório ou piloto antes de confirmar a máquina.
Quais são as principais características de projeto de Forno de arco de plasma CC para nanotubos de carbono de parede simples?
Principais características: Aquecimento direto com soleira condutora: o arco forma-se entre o elétrodo superior e o de soleira; Reator de plasma de alta limpeza para o crescimento de nanocarbono com catalisador flutuante; Sistema de substituição rápida de gás e sistema de recolha por névoa de água; Sistema de arrefecimento completo e consola de operação.
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