砂磨機常見問題解答

是的。兩個名稱指的是同一種介質攪拌磨。早期設備以天然砂作研磨介質，「砂磨機」這個叫法就沿用了下來，在亞洲尤其普遍。現代設備使用氧化鋯等陶瓷珠，因此「珠磨機」（bead mill）是目前國際上更常用的名稱。

取決於機型和研磨珠尺寸。INFOR 無篩網立式砂磨機搭配 0.05–2.0 mm 氧化鋯珠，可達 30–1000 nm；臥式渦輪和棒銷砂磨機一般在 100–1500 nm；盤式砂磨機涵蓋 D50 100 nm 至 20 µm。

需要用極小的研磨珠（0.1 mm 以下）達到奈米細度、又不想篩網堵塞時，選無篩網立式砂磨機。需要大流量、連續生產和較寬的細度範圍時，選臥式渦輪或棒銷砂磨機。用您自己的物料做實驗室試驗，是最可靠的判斷方式。

大多數奈米和次微米應用使用直徑約 0.03–2.0 mm 的釔安定氧化鋯珠。珠子越小研磨越細，但需要分離系統能留住它們的砂磨機。

轉子在裝滿細小研磨珠的研磨腔內高速旋轉。液體漿料由泵送入研磨腔，運動的研磨珠之間的撞擊和剪切把團聚體打開、把顆粒磨細。出口處的分離裝置讓合格的漿料通過、把研磨珠留在腔內，冷卻夾套帶走研磨產生的熱量。

按目標粒徑選珠子。常用的經驗是珠徑約為目標粒徑的 1000 倍，例如要磨到 0.1 µm，選 0.1 mm 的珠子。常規臥式砂磨機使用 0.1–2.0 mm 的氧化鋯珠，億富立式雙動力等無篩網立式砂磨機最小可用到 0.03 mm。珠子越小，越需要能把它留住的分離裝置。

雙動力砂磨機的轉子和分離器分別由獨立電機驅動，研磨能量和分離可以分開設定。它最適合三類情況：使用很細的研磨介質（立式雙動力系列可穩定使用 0.03–0.1 mm 研磨珠）；一條線要處理特性不同的多種漿料；最有利於粒徑的轉子轉速，恰好不是同軸分離器分離效果好的轉速。

三者都是臥式砂磨機，區別在於轉子把能量傳給研磨珠的方式。NCT 渦輪轉子提供高能量奈米分散、粒徑分佈窄，適合奈米碳管、奈米陶瓷和噴墨墨水。NCP 棒銷轉子為大流量設計，適合磷酸鐵鋰、磷酸錳鐵鋰、碳黑和隔膜塗覆等電池漿料。盤式攪拌結構則是塗料、油墨和顏料（D50 100 nm 至 20 µm）的經濟之選。

主要取決於目標粒徑。最細的陶瓷漿料適合無篩網的 LPM（30–1000 nm，研磨介質最小 0.05 mm）和立式雙動力砂磨機（50–2000 nm，研磨介質最小 0.03 mm）。鈦酸鋇、氧化鋁、氧化鋯等 100–1500 nm 的奈米陶瓷，通常選用帶陶瓷研磨腔的 NCT 渦輪砂磨機。較粗的結構陶瓷和電子陶瓷漿料可用盤式砂磨機。

億富有專門的奈米碳管導電漿料砂磨機系列：碳管專用轉子、動態篩網出料實現大流量、外部全不鏽鋼結構，筒體經防爆防裂處理。4 個型號涵蓋 15–150 L 研磨腔和 22–160 kW，也可提供完整的碳管導電漿料生產線。

可以。億富實驗型砂磨機與量產系列研磨原理相同：臥式 NCT 實驗機研磨腔 0.3–30 L，細度 100–1500 nm；無篩網立式 LPM 實驗機研磨腔 1–30 L，細度 30–1000 nm。在實驗腔體上驗證的配方可以轉移到 NCT 或 LPM 量產機型上。

通常用盤式砂磨機。億富盤式砂磨機細度 D50 100 nm–20 µm，研磨介質 0.3–2.0 mm，適用水性、油性、溶劑型和 UV 體系，並有防爆機型。盤銷式砂磨機研磨溫度低，適合熱敏配方；也可提供整條塗料生產線。

可以。濕法砂磨是讓原藥在懸浮劑中均勻分散的常用工藝。億富實驗型臥式砂磨機的應用領域就包括農藥懸浮劑，可以先在實驗機上試配方，再放大到量產機型。

先開研磨腔冷卻水和密封冷卻迴路，再開潤滑系統（有潤滑系統的機型）。按說明書要求先讓漿料充滿研磨腔，研磨珠、內襯和密封都不能乾磨，然後啟動主電機，逐步升到設定轉速。請始終以對應機型的操作說明書為準。

重點是最常導致停機的部件：機械密封（密封液位、冷卻液流量、有無洩漏）、冷卻系統（水流量和溫度、夾套結垢）、研磨介質（填充量、磨損和破碎）、分離裝置和出口、轉子和研磨腔內襯，以及傳動、潤滑和警報。做好檢查記錄，是為自己的物料確定維護週期最可靠的方法。

先檢查冷卻水流量和進水溫度；即使流量看起來正常，夾套結垢也會降低換熱效果。冷卻正常的話，可能是能量輸入對該物料過高，可降低轉子轉速或調整進料流量。熱敏性物料可能需要降低轉速、增加循環次數。

常見原因有：密封液不足或密封冷卻失效、密封面磨損、密封橡膠件與溶劑不相容，以及乾磨運行。先檢查密封液和冷卻液，再檢查密封件本身。碳化矽等硬質密封面耐磨，氟橡膠或聚四氟乙烯適用於腐蝕性介質。

研磨珠一般佔研磨腔有效容積的 70%–85%，例如 400 L 量產機約裝 1000–1260 kg。重量可按「有效容積 × 填充率 × 珠子堆積密度」估算。按說明書要求從加珠口加入，磨損後用同型號、同規格的珠子補加。

電流升高通常說明負載變大：物料黏度或固含量偏高、介質加得過多，或分離裝置開始堵塞（此時腔內壓力也會上升）。電流下降多半是研磨珠磨損或流失、填充量下降，或漿料比規定的稀。調整前先把電流和壓力、溫度、填充量對照著看；變化突然時應立即停機。

篩網堵塞會使腔內壓力升高：清洗篩網並檢查研磨珠，碎珠和團聚體是最常見的原因，同時確認漿料黏度沒有超出規定。產品裡出現研磨珠，說明篩網或分離裝置磨損、損壞，或碎珠小到能穿過間隙。LPM 和雙動力砂磨機採用無篩網離心分離，不存在篩網堵塞問題。

常見原因有：研磨珠磨損、相對目標過大或填充量不足；進料流量過大，漿料在腔內停留時間太短；轉子轉速偏低；預分散不好，留下團聚體。先檢查珠子規格和填充量，再降低流量或增加循環次數。目標在 100 nm 以下時，可能需要 0.05–0.1 mm 微珠和無篩網立式砂磨機。

用兩種產品都相容的清洗介質沖洗管路（水性體系用水，溶劑型體系用溶劑），直到流出液變清，並在殘料乾結之前清理研磨腔、進出料口和篩網。前蓋可拆、便於檢查和更換篩網的機型，或像 LPM 這樣筒體可自動升降的機型，換料更快；頻繁換色時籃式砂磨機最方便。