設備
碳材料砂磨設備。
各領域列出的是產品頁註明適用的設備和整線；通用機型會同時出現在多個領域。
CVD · 單壁碳管單壁奈米碳管 CVD 生長設備用於單壁奈米碳管製備的立式 CVD 生長爐：碳化矽爐管最大 Φ200 mm，三段溫區最高 1300 °C，可連續收料。- 最高溫度
- 1300 °C
- 爐管
- Φ170-200 mm
- 型號
- 2
等離子電弧 · 單壁碳管單壁奈米碳管等離子直流電弧爐高頻直流等離子電弧爐，加熱溫度 5000-7000 °C，浮動催化生長奈米碳材料，雙層水冷真空腔室，全自動出料。- 電弧溫度
- 5000-7000 °C
- 總功率
- 約 220 kW
碳管導電漿料碳管導電漿料專用砂磨機系列碳管導電漿料專用砂磨機系列採用外部全包不鏽鋼結構，防止在生產過程中物料腐蝕設備，配以特殊客製的密封件結構，安全無洩漏。- 型號
- 4
實驗型 · 高壓均質實驗型高壓均質機系列桌上型實驗型高壓均質機，設計壓力最高 2000 bar，最小處理量 20 ml 起，用於奈米分散、乳化與細胞破碎。- 設計壓力
- 最高 2000 bar
- 工作壓力
- 0-1500 bar
- 型號
- 4
中試型 · 高壓均質中試型高壓均質機系列中試型高壓均質機，流量 20-300 L/h，銜接實驗室研發與規模化生產。- 流量
- 20-300 L/h
- 最大工作壓力
- 最高 1500 bar
- 型號
- 5
生產型 · 高壓均質生產型高壓均質機系列生產型高壓均質機，流量 250-4000 L/h，工作壓力 1000-1500 bar，適合連續工業化生產。- 流量
- 250-4000 L/h
- 最大工作壓力
- 1000-1500 bar
- 型號
- 10
實驗室 · 臥式實驗型臥式砂磨機實驗型臥式砂磨機採用極小的研磨腔體，適合極小批量的快速研磨，研磨細度 100-1500nm，是實驗室奈米濕法研磨的最理想機型。- 研磨細度
- 100-1500nm
- 研磨介質
- 0.1-2.0mm
- 型號
- 5
整線方案
碳材料整線方案。
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