장비
탄소 소재용 비드밀.
각 분야에는 제품 페이지에 해당 용도가 명시된 밀과 라인을 모았습니다. 범용 기종은 여러 분야에 함께 표시됩니다.
CVD · SWCNT단일벽 탄소나노튜브 CVD 성장 장비단일벽 탄소나노튜브(SWCNT) 합성용 수직형 CVD 로. 탄화규소 로관 최대 Φ200 mm, 3구역 최고 1300 °C, 연속 회수.- 최고 온도
- 1300 °C
- 로관
- Φ170-200 mm
- 모델
- 2
플라즈마 아크 · SWCNT단일벽 탄소나노튜브용 플라즈마 직류 아크로5000-7000 °C에 이르는 고주파 직류 플라즈마 아크로. 부유 촉매법으로 나노 탄소를 성장시키며, 이중 수랭 진공 챔버와 전자동 배출을 갖췄습니다.- 아크 온도
- 5000-7000 °C
- 총 출력
- 약 220 kW
CNT 도전재 페이스트탄소나노튜브 도전재 페이스트 전용 비드밀 시리즈내식성 스테인리스 구조와 대유량, 방폭 처리를 적용한 탄소나노튜브 슬러리 전용 샌드밀입니다.- 로터
- CNT 전용 설계
- 모델
- 4
실험실 · 고압실험실용 고압 균질기 시리즈설계 압력 최대 2000 bar의 탁상형 고압 균질기. 최소 20 ml부터 나노 분산·유화·세포 파쇄에 사용.- 설계 압력
- 최대 2000 bar
- 작동 압력
- 0-1500 bar
- 모델
- 4
파일럿 · 고압파일럿용 고압 균질기 시리즈유량 20-300 L/h의 파일럿 규모 고압 균질기. 실험실 시험과 양산을 잇습니다.- 유량
- 20-300 L/h
- 최대 작동 압력
- 최대 1500 bar
- 모델
- 5
생산 · 고압생산용 고압 균질기 시리즈유량 250-4000 L/h, 작동 압력 1000-1500 bar의 생산용 고압 균질기. 연속 산업 생산용.- 유량
- 250-4000 L/h
- 최대 작동 압력
- 1000-1500 bar
- 모델
- 10
실험실 · 수평형실험용 수평형 비드밀실험실에서 초소량 배치와 신속한 나노 습식 분쇄 시험에 적합한 컴팩트한 수평형 샌드밀.- 분쇄 입도
- 100-1500 nm
- 분쇄 매체
- 0.1-2.0 mm
- 모델
- 5
턴키 생산 라인
탄소 소재용 생산 라인.
각 라인 페이지에 공정, 범위, 대표 소재를 정리했습니다.
어떤 밀이 맞을지 모르겠다면?
소재에서 시작합니다.
소재, 목표 입경, 필요 생산량을 알려주시면 INFOR가 시험 분쇄, 공정 설계, 장비 선정을 제안합니다.
소재 시험 신청