나노 소재 제조 장비제품 2종

나노 소재 장비

단일벽 탄소나노튜브 제조 장비: SWCNT 생산용 CVD 성장 장비와 플라즈마 직류 아크로.

단일벽 탄소나노튜브 CVD 성장 장비
CVD · SWCNT

단일벽 탄소나노튜브 CVD 성장 장비

단일벽 탄소나노튜브(SWCNT) 합성용 수직형 CVD 로. 탄화규소 로관 최대 Φ200 mm, 3구역 최고 1300 °C, 연속 회수.

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단일벽 탄소나노튜브용 플라즈마 직류 아크로
플라즈마 아크 · SWCNT

단일벽 탄소나노튜브용 플라즈마 직류 아크로

5000-7000 °C에 이르는 고주파 직류 플라즈마 아크로. 부유 촉매법으로 나노 탄소를 성장시키며, 이중 수랭 진공 챔버와 전자동 배출을 갖췄습니다.

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